ETRI 기술 개발 현황과 OLED 관련 이전 희망 기술
ETRI 기술 개발 현황과 OLED 관련 이전 희망 기술
ETRI(한국전자통신연구원)는 9월 18일부터 20일까지 개최되는 CVCE 2012에서 ‘ETRI 기술 이전’ Session을 통해 ETRI 디스플레이 기술 개발 현황과 ETRI의 주요 개발 기술인 전자종이용 잉크소재기술과 조명용 색가변 OLED 기술, ALD 박막 passivation기술을 소개했다.
ETRI 차세대 디스플레이연구단 추혜용 단장은 ETRI는 15년간 디스플레이연구를 진행해왔으며, 2008년 세계 최초 투명AMOLED 디스플레이를 개발을 시작으로 현재 주목 받고 있는 oxide TFT를 개발을 진행하고 있다고 전했다. ETRI가 개발 중인 산화물 전자소재로는 고안정성 산화물 반도체 사용될 수 있는 In와 Ga이 없는 신소재와 ALD를 이용한 산화물 TFT용 게이트 절연막인 Al2O3, 투과도 90%이상, 면저항 2Ω/□ 미만의 특성을 가진 저저항 투명 배선이 있다. 또한 AMOLED의 소비전력 효율 향상을 위해 nano 랜덤 구조 형성과 고굴절율 평탄화 층을 삽입해 scattering 효과를 얻는 OLED 내부 광추출 기술을 개발 중에 있다.
ETRI는 산화물 TFT와 인쇄공정, 공정장비, 전자종이, 평가장비, OLED 분야의 개발 기술을 14개 기관에 기술 이전을 하고 상용화를 지원하고 있다고 밝혔다.
전자종이 연구팀의 김철암 박사는 저전압 구동 전자잉크 제조 기술에 대하여 발표했다. 전자잉크 기술은 전자잉크 미립자를 유전유체에 분산시켜 외부 전압인가에 따른 미립자의 이동으로 정보를 표시하는 반사형 디스플레이 소재기술로 다양한 전자종이 기술들 중 전기영동 전자잉크 기술이 상용화 되고 있다. 현재 ETRI의 전자잉크 기술은 반사도가 향상된 500nm 이하 급 백색 전기영동 미립자 제조기술과 전기영동 입자를 유전유체에 혼합 또는 분산시키는 전자잉크 formulation 기술이 있다. 전자잉크formulation 기술은 15:1 이상의 대조비를 구현 시킬 수 있는 전자잉크 제조기술이다.
OLED연구팀의 이정익 박사는 ETRI의 색 가변 OLED 조명 기술과 관련해 설명했다. 색가변 OLED 조명 기술은 일본 Mitsubishi chemical이 적용한 line addressing type과 투명OLED와 bottom emission 방식의 OLED를 적층하는 OLED stack type이 있다. Line address type의 색가변 OLED 조명은 효율은 좋으나 라인 패터닝으로 인해 발생하는 제조비용이 크다. OLED stack type은 투명OLED로 인한 효율 손실이 있으나 패터닝을 하지 않기 때문에 제조 비용부담이 적다. ETRI는 OLED stack type에서 투명OLED에서 발생하는 효율손실을 굴절률이 다른 재료를 capping layer로 적용하는 기술을 개발 중에 있다.
산화물 TFT 연구팀의 박상희 박사는 ALD를 이용한 OLED passivation 기술에 대해 발표했다. OLED의 얇은 디자인 특성을 살리기 위해서는 박막의 passivation만으로 encapsulation이 부족하여 물리적인 보호를 위해 박막상에 film lamination이 필요하다. ETRI가 보유하고 있는 passivation 기술은 저온공정이 가능하고 barrier 특성이 우수하며 높은 굴절율을 가지는 AlOx로 이루어져있는 passivation layer를 ALD를 이용해 제작하는 기술이다. 박상희 교수는 개발 중인 ALD passivation layer가 소형 OLED 시장에서 중/대형 OLED 시장으로 진입할 수 있을 것이라고 전망했으며, ALD passivation 기술은 AMOLED 뿐만 아니라 solar cell, 면조명 등 다른 분야에서도 확대 적용할 수 있다고 전했다.
